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                                  全反射X射線熒光(TXRF)前處理方式的考量

                                  更新日期: 2024-02-21
                                  瀏覽人氣: 73

                                  全反射X射線熒光(TXRF)是一種微量分析方法,特別適用于樣品量小的樣品,一次分析所需樣品量,固體材料可達μg級,液體樣品則通常少于100μL。

                                  TXRF受自身原理限制,樣品于玻片上必須滿足薄層的要求,以消除普遍存在于EDXRF中的基體影響。因此,其樣品量明顯減少,且前處理方式也有著明顯不同。

                                  通常,可根據樣品形態選擇合適的前處理方式,且可能需要考慮如下的幾點要求:

                                  a.   于樣品玻片上形成均勻的薄層;

                                  b.   待測元素及內標元素均勻分布;

                                  c.   待測元素的富集;

                                  d.   待測元素與干擾元素的分離;

                                  e.   阻止樣品溶液擴散;

                                  基于以上因素,TXRF所采用的前處理既繼承了部分常見無機元素檢測中的方法,又發展出了具有自身特色的前處理方式,如下圖:


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